苹果彩票2020-26年中国CMP抛光机行业市场发展现状
发布时间:2019-11-24 14:51

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  CMP设置苛重被使用质料和日本的Ebara垄断,两者市占率之和赶上90%; 掷光质料是CMP工艺经过中必不行少的耗材,依照成效的区别,可能划分为掷光垫、掷光液、治疗器、洁净剂等。目前,CMP掷光质料苛重以掷光液(48%)和掷光垫(31%)为主。 环球芯片掷光液出产企业苛重被日本 Fujimi、Hinomoto Kenmazai 公司,美邦卡博特、杜邦、Rodel、Eka,韩邦的 ACE等所垄断,攻陷环球 90%以上的高端墟市份额;掷光垫墟市苛重被陶氏化学公司所垄断,墟市份额赶上80%,其他供应商还征求日本东丽、3M、中邦台湾三方化学、卡博特等。

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